特許

J-GLOBAL ID：200903087871732284

マイナスイオン発生エアゾール化粧料

発明者： 西田 美晴 ,  石渡 正昭 ,  富永 直樹
出願人/特許権者： 株式会社資生堂
代理人 (1件)： ▲高▼野 俊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-288768
公開番号（公開出願番号）：特開2003-055147
出願日： 2001年09月21日
公開日（公表日）： 2003年02月26日
要約：

【要約】【課題】 プラスイオンの発生を抑制し、皮膚の新陳代謝に好ましいマイナスイオンを優先的に発生するエアゾール化粧料を提供すること。【解決手段】 水と、HLB3〜14の界面活性剤と、噴射剤とを含有するマイナスイオン発生エアゾール化粧料

請求項（抜粋）：

水と、HLB3〜14の界面活性剤と、噴射剤とを含有するマイナスイオン発生エアゾール化粧料。

IPC (3件)：

A61K 7/00 ,  A61K 7/48 ,  C09K 3/30

FI (6件)：

A61K 7/00 S ,  A61K 7/00 C ,  A61K 7/00 M ,  A61K 7/00 N ,  A61K 7/48 ,  C09K 3/30 B

Fターム (22件)：

4C083AA112 ,  4C083AB051 ,  4C083AB282 ,  4C083AC122 ,  4C083AC152 ,  4C083AC182 ,  4C083AC302 ,  4C083AC421 ,  4C083AC431 ,  4C083AC432 ,  4C083AC482 ,  4C083AC532 ,  4C083AD042 ,  4C083BB01 ,  4C083BB11 ,  4C083BB49 ,  4C083CC04 ,  4C083DD08 ,  4C083DD35 ,  4C083EE12 ,  4C083FF01 ,  4C083FF06