特許
J-GLOBAL ID:200903087886801649
液晶表示装置の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
岩橋 文雄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-322299
公開番号(公開出願番号):特開2002-131777
出願日: 2000年10月23日
公開日(公表日): 2002年05月09日
要約:
【要約】【課題】 液晶表示装置の製造過程、クリーンルームの環境や用いる薬品の再生液で生じるクロスコンタミなどで生じる基板汚染、特に金属汚染が起因するデバイス特性の不安定に対して、前記製造過程の主たる工程間の洗浄を管理する。【解決手段】 本発明は、透明基板上に非単結晶Si膜を形成する工程と、オゾン水溶液で処理した後、希フッ酸水溶液で処理する洗浄工程とを有する液晶表示装置の製造方法を提供するものである。
請求項(抜粋):
透明基板上に非単結晶Si膜を形成する工程と、オゾン水溶液で処理した後、希フッ酸水溶液で処理する洗浄工程を有する液晶表示装置の製造方法。
IPC (8件):
G02F 1/1368
, B08B 3/08
, G02F 1/13 101
, G02F 1/1333 500
, G02F 1/1333 505
, H01L 29/786
, H01L 21/336
, H01L 21/304 647
FI (11件):
B08B 3/08 Z
, G02F 1/13 101
, G02F 1/1333 500
, G02F 1/1333 505
, H01L 21/304 647 Z
, G02F 1/136 500
, H01L 29/78 616 K
, H01L 29/78 616 L
, H01L 29/78 617 V
, H01L 29/78 618 Z
, H01L 29/78 627 G
Fターム (51件):
2H088FA21
, 2H088HA01
, 2H088HA08
, 2H088HA12
, 2H088HA14
, 2H088MA20
, 2H090HA04
, 2H090HB03X
, 2H090JB02
, 2H090JC07
, 2H090JC19
, 2H090LA04
, 2H092HA28
, 2H092JA24
, 2H092JB52
, 2H092JB58
, 2H092KA05
, 2H092MA30
, 2H092MA37
, 2H092NA18
, 2H092NA27
, 2H092PA01
, 2H092PA08
, 3B201AA02
, 3B201AB01
, 3B201BB89
, 3B201BB93
, 3B201BB96
, 3B201BB98
, 3B201CB11
, 5F110AA30
, 5F110BB01
, 5F110CC02
, 5F110DD02
, 5F110DD13
, 5F110DD14
, 5F110DD25
, 5F110FF35
, 5F110GG02
, 5F110GG13
, 5F110GG58
, 5F110HJ22
, 5F110HL26
, 5F110NN02
, 5F110NN72
, 5F110NN73
, 5F110PP01
, 5F110PP03
, 5F110PP10
, 5F110PP34
, 5F110PP38
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