特許
J-GLOBAL ID：200903087890887639
フェムト秒パルスレーザを用いるシリカベースガラスへの光デバイスの直接書込
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
柳田 征史 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-514433
公開番号（公開出願番号）：特表2003-506731
出願日： 2000年07月28日
公開日（公表日）： 2003年02月18日
要約：
【要約】本発明はバルクガラス基板に光導波構造を書き込む方法に関する。バルクガラス基板は、アニール点が約1380Kより低い、軟質シリカベース材料でつくられることが好ましい。パルスレーザビームが基板内に集束され、同時に、焦点が走査経路に沿って、走査経路に沿う材料の屈折率の増大を誘起するのに有効な走査速度で、基板に相対的に平行移動される。走査経路に沿う、材料のレーザ誘起物理的損傷は実質的に生じない。この方法を用いて様々な光デバイスを作成することができる。
請求項（抜粋）：
バルクガラス基板に光導波構造を書き込む方法において: a) 軟質シリカベース材料でつくられたバルクガラス基板を選択する工程;及び b) パルスレーザビームを前記基板内にある焦点に集束させ、同時に、前記焦点を走査経路に沿って、前記走査経路に沿う前記材料の屈折率の非露光領域の屈折率に対する増大を誘起するのに有効であるが、前記走査経路に沿う前記材料のレーザ誘起破壊は実質的に生じさせない走査速度で、前記基板に相対的に平行移動させる工程;を含むことを特徴とする方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01S 3/00 B
, G02B 6/12 M
2H047KA03
, 2H047PA22
, 2H047QA04
, 5F072SS08
, 5F072YY06
