特許
J-GLOBAL ID：200903087905718715
ジヒドロピランの製造法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
古谷 馨 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-110761
公開番号（公開出願番号）：特開2000-302776
出願日： 1999年04月19日
公開日（公表日）： 2000年10月31日
要約：
【要約】【課題】 副生する含ハロゲン有機化合物を低減させた、高品質なジヒドロピランの製造法の提供。【解決手段】 アルデヒドとジエン化合物とを、ハロゲン系ルイス酸触媒の存在下で反応させた後、反応生成物をアルカリ存在下に加熱処理して、ジヒドロピラン(III) を得る。【化1】(R1は水素原子、炭素数1〜12のアルキル基もしくはアルケニル基、総炭素数3〜12のシクロアルキル基、総炭素数6〜12のアリール基等、R2及びR3は水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基もしくはアルケニル基を示す。)
請求項（抜粋）：
一般式(I):R1-CHO (I)(式中、R1は水素原子又は炭素数1〜12のアルキル基もしくはアルケニル基又はアルキル基で置換されていてもよい総炭素数3〜12のシクロアルキル基又はアルキル基もしくはアルコキシ基で置換されていてもよい総炭素数6〜12のアリール基を示す。)で表されるアルデヒドと、一般式(II):【化1】(式中、R2及びR3は同一又は異なって、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基もしくはアルケニル基を示す。)で表されるジエン化合物とを、ハロゲン系ルイス酸触媒の存在下で反応させた後、反応生成物をアルカリ存在下に加熱処理する、一般式(III):【化2】(式中、R1, R2及びR3は前記の意味を示す。)で表されるジヒドロピランの製造法。
IPC (3件)：
C07D309/18
, B01J 27/10
, C07B 61/00 300
C07D309/18
, B01J 27/10 X
, C07B 61/00 300
4C062BB24
, 4H039CA42
, 4H039CH40
