特許

J-GLOBAL ID：200903087910672324

露光データ処理方法

発明者： 大竹 高 ,  星野 裕美
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-307018
公開番号（公開出願番号）：特開平6-163372
出願日： 1992年11月17日
公開日（公表日）： 1994年06月10日
要約：

【要約】【目的】 本発明は露光データ処理方法に関し、露光データ作成の時間を短縮化するマスクROM集積回路の露光データ処理方法を提供することを目的としている。【構成】 単一品種で書き込みデータに応じて所定情報を格納するROM部のパターンのみが異なり、該ROM部以外のパターンが同一であるマスクROM集積回路の露光データ作成処理方法であって、前記ROM部のパターンを発生させるセル形成層を所定サイズの複数の小領域に分割し、各小領域内におけるROMパターン発生処理を、それぞれ複数の処理手段によって並列処理するように構成する。

請求項（抜粋）：

単一品種で書き込みデータに応じて所定情報を格納するROM部のパターンのみが異なり、該ROM部以外のパターンが同一であるマスクROM集積回路の露光データ作成処理方法であって、前記ROM部のパターンを発生させるセル形成層を所定サイズの複数の小領域に分割し、各小領域内におけるROMパターン発生処理を、主処理を行う第一処理手段と、該第一処理手段の外部に設けられ、該第一処理手段と情報伝送路を介して接続された複数の第二処理手段とにより、前記ROM部の書き込みデータの内容を表す真理値情報、品種毎に用意されたバルクデータ情報、露光偏向領域単位に分割され、かつ、露光順序にソートされたROMのセルパターン配置情報の各情報を該第二処理手段に送信し、該第二処理手段のROMパターン発生処理によって作成した小領域毎の露光データを該第一処理手段に送信し、該第一処理手段により受信した小領域毎の露光データに基づいてセル形成層全体の露光データを再構築して露光データを得ることを特徴とする露光データ処理方法。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521 ,  G11C 17/00 ,  H01L 27/10 431