特許
J-GLOBAL ID：200903087912261488
基板の熱処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
間宮 武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-142362
公開番号（公開出願番号）：特開平7-326588
出願日： 1994年05月30日
公開日（公表日）： 1995年12月12日
要約：
【要約】【目的】 熱処理炉内へ基板を搬出入する際に開口を通して炉内へ外気が侵入するのを抑制し、熱処理中においてはガス排出部付近にガスの流れの淀み部が生じないようにして炉内からスムーズに排気が行なわれるようにし、熱処理品質の均一性及び再現性を高め、スループットを向上させる。【構成】 熱処理炉の内周横断面に比べて開口20が広くなるように内壁面を幅方向全体にわたって段付き面36に形成し、その段付き面に排気口40を開設する。排気口の前方を覆うように炉内壁面を開口方向へ突出させて仕切り壁34を形設し、仕切り壁先端と蓋体22との間に通気路38が形成されるようにして、排気室35を有するガス排出部32を構成した。
請求項（抜粋）：
全体が扁平状をなし、一側面に蓋体によって開閉自在に閉塞される開口が形成され、被処理基板を1枚ずつ収容する熱処理炉を有し、前記開口に対向する一端側にガス導入部が配設され、他端側の、前記開口の近傍にガス排出部が配設された基板の熱処理装置において、前記ガス排出部には、前記熱処理炉の前記開口の幅方向にわたって当該開口に沿って前記一側面に臨む排気室を形成して、該排気室に排気口を開設するとともに、前記熱処理炉と前記排気室との間の仕切り壁を、前記開口を閉塞した前記蓋体と当該仕切り壁の先端との間に幅方向にわたって通気路を形成するように構成したことを特徴とする基板の熱処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/205
, C23C 16/44
, H01L 21/26
, H01L 21/324
