特許
J-GLOBAL ID：200903087912852648
多層膜の膜厚測定方法及び測定装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-108500
公開番号（公開出願番号）：特開平10-303262
出願日： 1997年04月25日
公開日（公表日）： 1998年11月13日
要約：
【要約】【課題】 多層膜中の膜厚の被測定膜の膜厚測定において、下地パターン依存性による測定エラーの発生を防止し、安定した膜厚測定を実現できる多層膜の膜厚測定方法及び測定装置を提供する。【解決手段】 基板301上に少なくとも2層の膜302,303を有し、膜厚の被測定膜303はその下に少なくとも1層の膜302を有し、かつ膜厚の被測定膜はその下地に段差304等による下地パターンを有する構造の多層膜構造の上記被測定膜の膜厚を測定する多層膜の膜厚測定方法及び装置で、基板表面からの光反射率306,307の波長依存性を測定し、被測定膜の下層の膜の膜種及び膜厚と、被測定膜の膜種とを既知として、上記波長依存性の測定結果に基づき被測定膜の膜厚を測定する際、下地パターンを光学的に検出するノマルスキー式微分干渉装置等による測定を行う。
請求項（抜粋）：
基板上に少なくとも2層の膜を有し、膜厚の被測定膜はその下に少なくとも1層の膜を有し、かつ膜厚の被測定膜はその下地に下地パターンを有する構造の多層膜構造について上記膜厚の被測定膜の膜厚を測定する多層膜の膜厚測定方法であって、基板表面からの光反射率の波長依存性を測定し、被測定膜の下層の膜の膜種及び膜厚と、被測定膜の膜種とを既知として、上記波長依存性の測定結果に基づき被測定膜の膜厚を測定するに際し、上記下地パターンを光学的に検出する測定を行うことを特徴とする多層膜の膜厚測定方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/66 P
, G01B 11/06 G
