特許

J-GLOBAL ID：200903087915026536

遠紫外線露光用フォトレジスト組成物およびその使用方法

発明者： ロバート・デーヴィッド・アレン ,  リチャード・アンソニー・ディピエトロ ,  グレゴリー・マイケル・ワルロフ
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
代理人 (1件)： 合田 潔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-128606
公開番号（公開出願番号）：特開平8-015865
出願日： 1995年05月26日
公開日（公表日）： 1996年01月19日
要約：

【要約】【目的】 改善された感受性および解像度を有する遠紫外線用放射線感受性レジスト組成物を提供すること。【構成】 本発明のレジスト組成物は、(a)1〜10重量%の放射線感受性の酸生成剤と(b)10〜40重量%の置換アンドロスタンと(c)50〜90重量%の共重合体結合剤とを含む放射線感受性レジスト組成物である。このレジスト組成物は、特に193nmの波長の紫外線で露光され、厚さ1ミクロンのレジスト・フィルムは、約15mJ/cm2未満の放射線量でも十分に像形成できる程度に露光される。

請求項（抜粋）：

放射線感受性酸生成剤と、1〜3個の保護された水酸置換基を有するアンドロスタン-17-アルキルカルボキシレートと、並びに、(a)アクリル酸またはメタクリル酸から選択された単量体、および、(b)メタクリレートまたはアクリレートから選択された単量体との反応生成物を含む共重合体とを含むレジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開平4-230758
  
• ポジ型レジスト材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-300372   出願人：信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社
• 特開平1-155339
  
• 特開昭64-080944
  
• ポジ型レジスト材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-218703   出願人：日本電信電話株式会社