特許
J-GLOBAL ID：200903087934895090
カラーフイルタの共通欠陥検査方式
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
白井 博樹 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-184643
公開番号（公開出願番号）：特開平5-026642
出願日： 1991年07月24日
公開日（公表日）： 1993年02月02日
要約：
【要約】【目的】カラーパターン形成工程の早期に共通欠陥としての白欠陥部を検出し、正常なフォトマスクと自動的に交換する。【構成】塗布装置21、露光装置22および現像装置23を備え、透明基板1上にカラーパターンを形成するカラーフィルタの製造工程において、前記露光装置22内のフォトマスクを交換するマスク自動交換装置26を設けると共に、前記現像装置23の後段に共通欠陥検査装置24を配設し、該共通欠陥検査装置24において検査用フォトマスク29によりカラーパターンのみに光を照射させ、カラーパターンの白欠陥部11を光学的に検出し、白欠陥部が検出されると、この信号をマスク自動交換装置26にフィードバックし、露光装置22内のフォトマスクを正常なマスクと交換する。
請求項（抜粋）：
塗布装置、露光装置および現像装置を備え、透明基板上にカラーパターンを形成するカラーフィルタの製造工程において、前記露光装置内のフォトマスクを交換するマスク自動交換装置を設けると共に、前記現像装置の後段に共通欠陥検査装置を配設し、該共通欠陥検査装置において検査用フォトマスクによりカラーパターンのみに光を照射させ、カラーパターンの白欠陥部を光学的に検出し、該白欠陥部が検出されると、この信号をマスク自動交換装置にフィードバックし、前記露光装置内のフォトマスクを正常なマスクと交換することを特徴とするカラーフィルタの共通欠陥検査方式。
IPC (4件)：
G01B 11/24
, G01N 21/88
, G02B 5/20 101
, G03F 1/08
