特許

J-GLOBAL ID：200903087937223726

高圧水素ガスの製造方法

発明者： 畠山 耕 ,  川崎 始 ,  傳 建順 ,  西村 建二
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社
代理人 (1件)： 須田 正義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-083495
公開番号（公開出願番号）：特開平11-279782
出願日： 1998年03月30日
公開日（公表日）： 1999年10月12日
要約：

【要約】【課題】 多量の電解質を添加せずに液抵抗を抑制することができ、高い電解効率で容易に高圧の水素ガスを製造する。【解決手段】 H+イオン及びOH-イオンを透過するが通気性の乏しい絶縁性隔膜14で仕切られた陽極室16と陰極室17にそれぞれ水を供給する。陽極室16及び陰極室17の水をそれぞれ亜臨界状態又は超臨界状態にして電気分解を行う。陰極室17で生じた亜臨界状態又は超臨界状態の水素ガスとを含む水の圧力又は温度のいずれか一方又は双方を低下させることにより高圧の水素ガスを取出す。

請求項（抜粋）：

H+イオン及びOH-イオンを透過するが通気性の乏しい絶縁性隔膜(14)で仕切られた陽極室(16)と陰極室(17)にそれぞれ水を供給する工程と、前記陽極室(16)及び陰極室(17)の水をそれぞれ亜臨界状態又は超臨界状態にして電気分解を行う工程と、前記陰極室(17)で生じた亜臨界状態又は超臨界状態の水素ガスを含む水の圧力又は温度のいずれか一方又は双方を低下させることにより高圧の水素ガスを取出す工程とを含む高圧水素ガスの製造方法。

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭54-089993
  
• 水素・酸素発生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-158899   出願人：神鋼パンテツク株式会社