特許
J-GLOBAL ID：200903087945036129
遷移金属化合物、それを用いた重合用触媒及び該重合用触媒を用いた重合体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
東平 正道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-019638
公開番号（公開出願番号）：特開平11-335387
出願日： 1999年01月28日
公開日（公表日）： 1999年12月07日
要約：
【要約】【課題】 エチレン性不飽和結合含有化合物の重合体、特に高度のシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体を高活性触媒により製造する方法の開発。【解決手段】(A)1-エチル-2-メチル-4,5,6,7-テトラヒドロインデニルチタニウムトリメトキシドのような特定の遷移金属化合物、(B)(イ)酸素含有化合物、(ロ)遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成しうる化合物又は(ハ)粘土,粘土鉱物もしくはイオン交換性層状化合物と、必要に応じて(C)アルキル化剤からなる重合用触媒を用いて、エチレン性不飽和結合含有化合物の重合体、特にシンジオタクチックスチレン系重合体を製造する。
請求項（抜粋）：
下記一般式(I)で表される遷移金属化合物。RMXa-1 Lb ・・・(I)[式中、Rはπ配位子で、その置換基のうち少なくとも一つが炭素数2以上のアルキル基である置換インデニル基もしくは置換フルオレニル基、又はその置換基のうち少なくとも一つが炭素数2以上のアルキル基である置換シクロペンタジエニル基であって、該置換シクロペンタジエニル基が縮合結合している多員環の少なくとも一つが飽和環である縮合多環式シクロペンタジエニル基を示す。Mは遷移金属、Xはσ配位子を示し、複数のXは互いに同一でも異なっていてもよく、また、互いに任意の基を介して結合していてもよい。Lはルイス塩基、aはMの価数、bは0,1又は2を示し、Lが複数の場合、各Lは互いに同一でも異なっていてもよい。]
IPC (4件)：
C07F 17/00
, C08F 4/64
, C08F 12/08
, C07F 7/28
C07F 17/00
, C08F 4/64
, C08F 12/08
, C07F 7/28 F
