特許
J-GLOBAL ID：200903087945261645
レーザビーム走査光学系
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-301805
公開番号（公開出願番号）：特開平5-142495
出願日： 1991年11月18日
公開日（公表日）： 1993年06月11日
要約：
【要約】【目的】 ポリゴンミラーの面の出入りによって画像上に周期的に発生するピッチムラを抑えることを目的とする。【構成】 斜め方向からポリゴンミラー3に入射されたレーザビーム20a,20bは、ポリゴンミラー3で偏向された後、結像光学系Lを介して感光体ドラム6上に集光される。ポリゴンミラー3の面の出入りに起因するピッチムラを抑えるために、光軸に対してレーザビーム20a,20bが偏向器に入射する入射角θ、結像光学系の副走査方向の倍率β、受光面を走査するレーザビームの副走査方向の走査線間隔Piで表わされる条件式を満足させる。
請求項（抜粋）：
レーザビーム発生源と、このレーザビーム発生源から発生されたレーザビームを走査方向に偏向する偏向器と、前記走査方向と直交する方向について前記偏向器の偏向面とレーザビームで走査される受光面とが共役関係となるように設けられた結像光学系とを備え、レーザビームが光軸に対して所定の角度で前記偏向器の偏向面に入射されるレーザビーム走査光学系において、光軸に対してレーザビームが前記偏向器に入射する入射角をθ、前記結像光学系の前記走査方向と直交する方向の倍率をβ、受光面を走査するレーザビームの走査方向と直交する方向の走査線間隔をPiとすると、|β*tanθ|≦(5/3)*Piの関係を満足するレーザビーム走査光学系。
IPC (3件)：
G02B 26/10 103
, B41J 2/44
, H04N 1/04 104
