表面改質方法及び該方法を用いた印刷版の製造方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：高橋勝利
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-318224
公開番号（公開出願番号）：特開2000-143852
出願日： 1998年11月10日
公開日（公表日）： 2000年05月26日
要約：

【要約】【課題】簡便かつ迅速に高分子材料表面を部位選択的に改質することができ、しかも改質された表面性状が経時変化を受けることなく恒久的に保持される部位選択的表面改質方法を提供すること、簡便、迅速な乾式処理方式により、地汚れのない耐刷性と保存安定性に優れた印刷版の製造方法を提供すること。【解決手段】 (1)支持体(C)上に少なくとも反応性官能基(a)を有する表面改質媒体を含有する改質媒体層(A)を設けてなる改質媒体基材に、部位選択的にレーザー光を露光することによって、改質媒体層(A)の露光部位を除去する第1工程、(2)未露光部位の改質媒体層(A')の面に、反応性官能基(a)と結合反応可能な反応性官能基(b)を有する高分子基材(B)を積層した後、支持体(C)を剥離することによって、高分子基材(B)上に未露光部位の改質媒体層(A')を転写する第2工程、及び(3)未露光部位の改質媒体層(A')中の反応性官能基(a)と、高分子基材(B)中の反応性官能基(b)とを結合反応させる第3工程からなることを特徴とする表面改質方法。

請求項（抜粋）：

(1)支持体(C)上に少なくとも反応性官能基(a)を有する表面改質媒体を含有する改質媒体層(A)を少なくとも1層設けてなる改質媒体基材に、部位選択的にレーザー光を露光することによって、改質媒体層(A)の露光部位を除去する第1工程、(2)未露光部位の改質媒体層(A’)の面に、反応性官能基(a)と結合反応可能な反応性官能基(b)を有する高分子基材(B)を積層した後、支持体(C)を剥離することによって、高分子基材(B)上に未露光部位の改質媒体層(A’)を転写する第2工程、及び(3)未露光部位の改質媒体層(A’)中の反応性官能基(a)と、高分子基材(B)中の反応性官能基(b)とを結合反応させる第3工程からなることを特徴とする表面改質方法。

IPC (4件)：

C08J 7/12 , B41C 1/10 , B41N 1/08 , C08J 7/16

FI (4件)：

C08J 7/12 , B41C 1/10 , B41N 1/08 , C08J 7/16

Fターム (46件)：

2H084AA30 , 2H084AE05 , 2H084BB04 , 2H084BB13 , 2H084CC05 , 2H114AA04 , 2H114AA14 , 2H114AA22 , 2H114AA23 , 2H114AA27 , 2H114BA02 , 2H114DA56 , 2H114DA73 , 2H114EA01 , 2H114EA03 , 2H114EA04 , 2H114FA16 , 2H114GA02 , 2H114GA34 , 2H114GA38 , 4F073AA06 , 4F073BA06 , 4F073BA08 , 4F073BA10 , 4F073BA13 , 4F073BA16 , 4F073BA18 , 4F073BA19 , 4F073BA22 , 4F073BA27 , 4F073BA28 , 4F073BB01 , 4F073CA42 , 4F073CA45 , 4F073CA53 , 4F073FA01 , 4F073FA02 , 4F073FA03 , 4F073FA04 , 4F073FA05 , 4F073FA06 , 4F073FA07 , 4F073FA09 , 4F073FA10 , 4F073FA11 , 4F073FA13

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