特許
J-GLOBAL ID：200903087951034588
スパッタ装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐々木 聖孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-350201
公開番号（公開出願番号）：特開平5-163567
出願日： 1991年12月09日
公開日（公表日）： 1993年06月29日
要約：
【要約】[目的]スパッタ装置においてターゲットの表面付近の磁界強度分布を任意の勾配で可変調整し、被処理体上の膜厚を精細に制御できるようにする。[構成]マグネット・アッセンブリ44の上板44cは、4組のボルト46およびナット48によってドライブリングの支持板40に着脱可能に取付される。これらのボルト46を緩めてそれぞれのナット48を外すことで、支持板40からテーパ形スペーサ42とマグネット・アッセンブリ44を取外し、テーパ形スペーサ42を別のものと交換することができる。テーパ形スペーサ42のテーパ角θを変えてターゲット表面に対するマグネット・アッセンブリ44の傾き角度を調整することにより、プラズマリングRにおける内側部Ra と外側部Rb との磁界強度ひいてはプラズマ密度の差を任意の割合および任意の勾配で調節することができる。
請求項（抜粋）：
ターゲットの表面付近で高密度のプラズマを閉じ込めるための磁界を与える磁界発生手段を備えたスパッタ装置において、前記ターゲットの表面に対して前記磁界発生手段の傾きを任意の角度に調整するための手段を具備してなることを特徴とするスパッタ装置。
IPC (3件)：
C23C 14/34
, C23C 14/54
, H01L 21/203
