特許
J-GLOBAL ID：200903087951038826
欠陥検査方法および装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
國分 孝悦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-297066
公開番号（公開出願番号）：特開2001-116704
出願日： 1999年10月19日
公開日（公表日）： 2001年04月27日
要約：
【要約】【課題】 光量むらの少ない画像を得ることができ、かつ高速走査にも有効に対応可能な欠陥検査方法および装置を提供する。【解決手段】 照明光学系101から検査対象100に照明光を照射し、検査対象100からの反射光を検出光学系102で受光して、その観察画像から検査対象100の表面欠陥を検出する。観察光学系に入射する反射光の一部を遮光する遮光手段106と、検出光学系102の受光光量を増減させるように遮光手段106を駆動する駆動手段108と、検査対象100を走査方向に移動駆動する移動手段116と、を備える。遮光手段106の位置は、検出光学系102の光電素子の出力に応じて制御される。
請求項（抜粋）：
照明光学系から検査対象に照明光を照射し、前記検査対象からの反射光を検出光学系で受光して、その観察画像から前記検査対象の表面欠陥を検出する欠陥検査方法であって、前記検出光学系に入射する前記検査対象からの前記反射光の一部を遮光する遮光手段の位置を制御することにより、前記観察画像において一様な光量の背景画像を得るようにしたことを特徴とする欠陥検査方法。
Fターム (9件)：
2G051AA90
, 2G051BB17
, 2G051CA03
, 2G051CC07
, 2G051DA08
, 2G051EA09
, 2G051EA11
, 2G051EB01
, 2G051EC03
