特許
J-GLOBAL ID：200903087956738478
レチクルの作成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡本 啓三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-169794
公開番号（公開出願番号）：特開平5-019445
出願日： 1991年07月10日
公開日（公表日）： 1993年01月29日
要約：
【要約】【目的】マスク又はレチクル及びその作成方法に関し、マスク又はレチクル上への転写パターンの形成を精度良く行うことができるマスク又はレチクル及びその作成方法を提供することを目的とする。【構成】透明基板8上のパターン形成膜9の上にレジスト膜10aを形成する工程と、180度よりも大きい角度を有する角部14bを含む、レジスト膜を残すべき領域11aであって、角部14bの屈曲点となるべき点の周囲15を除いて電子ビームを照射する工程と、レジスト膜10aを現像した後、残存するレジスト膜10aをマスクとしてパターン形成膜9を選択的にエッチング・除去する工程とを含み構成する。
請求項（抜粋）：
透明基板上のパターン形成膜の上にレジスト膜を形成する工程と、180度よりも大きい角度を有する角部を含む、該レジスト膜を残すべき領域であって、前記角部の屈曲点となるべき点の周囲を除いて電子ビームを照射する工程と、前記レジスト膜を現像した後、残存する該レジスト膜をマスクとして前記パターン形成膜を選択的にエッチング除去する工程とを有するレチクルの作成方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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