特許
J-GLOBAL ID:200903087963351562

レジスト用(共)重合体およびそれを用いたレジスト組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡辺 勝 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-042995
公開番号(公開出願番号):特開2000-241976
出願日: 1999年02月22日
公開日(公表日): 2000年09月08日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、遠紫外領域において高感度でかつ、芳香族環に匹敵する高いドライエッチング耐性を有するレジスト用(共)重合体およびこれを用いたレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】 下記式(I)で示される繰り返し単位を含むレジスト用(共)重合体。【化1】(式(I)中、R1は、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数1〜25の炭化水素基を表す。)
請求項(抜粋):
下記式(I)で示される繰り返し単位を含むレジスト用(共)重合体。【化1】(式(I)中、R1は、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数1〜25の炭化水素基を表す。)
IPC (2件):
G03F 7/039 601 ,  C08F 36/20
FI (2件):
G03F 7/039 601 ,  C08F 36/20
Fターム (28件):
2H025AA00 ,  2H025AA01 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025CB06 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CB52 ,  4J100AE71P ,  4J100AE83P ,  4J100AJ02Q ,  4J100AJ09Q ,  4J100AL03Q ,  4J100BA11P ,  4J100BA15P ,  4J100BA16P ,  4J100BA20P ,  4J100BC04P ,  4J100BC09P ,  4J100BC43P ,  4J100BC53P ,  4J100CA04 ,  4J100JA38

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