特許

J-GLOBAL ID：200903087967266284

高分子電解質ゲルおよびその製造方法

発明者： 田中 浩二
出願人/特許権者： 東洋紡績株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-078908
公開番号（公開出願番号）：特開2002-279826
出願日： 2001年03月19日
公開日（公表日）： 2002年09月27日
要約：

【要約】【課題】 電気化学デバイス用材料として有用なイオン伝導性高分子電解質ゲル、ならびに該ゲルの製造方法を提供する。【解決手段】 エポキシ基を1分子中に2個以上有する高分子が支持電解質を触媒とするエポキシ環の開環架橋反応してなる架橋高分子と、前記支持電解質および有機溶媒でなる高分子電解質ゲルおよびその製造方法。

請求項（抜粋）：

エポキシ基を1分子中に2個以上有する高分子(以下、エポキシ基含有高分子という)が支持電解質を触媒とするエポキシ環の開環架橋反応してなる架橋高分子(以下、エポキシ架橋高分子という)と、前記支持電解質および有機溶媒でなる高分子電解質ゲル。

IPC (4件)：

H01B 1/06 ,  C08G 59/68 ,  H01B 13/00 ,  H01M 10/40

FI (4件)：

H01B 1/06 A ,  C08G 59/68 ,  H01B 13/00 Z ,  H01M 10/40 B

Fターム (18件)：

4J036AK02 ,  4J036AK03 ,  4J036AK08 ,  4J036AK09 ,  4J036AK11 ,  4J036AK19 ,  4J036GA06 ,  4J036JA15 ,  4J036KA07 ,  5G301CA16 ,  5G301CA30 ,  5G301CD01 ,  5H029AJ01 ,  5H029AM03 ,  5H029AM05 ,  5H029AM07 ,  5H029AM16 ,  5H029EJ12