特許

J-GLOBAL ID：200903087981337720

錫-ビスマスはんだ合金めっき層の形成方法

発明者： 児玉 篤志 ,  深町 一彦
出願人/特許権者： 日鉱金属株式会社
代理人 (1件)： 村井 卓雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-081273
公開番号（公開出願番号）：特開平11-279789
出願日： 1998年03月27日
公開日（公表日）： 1999年10月12日
要約：

【要約】【課題】 錫-ビスマスはんだ合金めっき層を形成する際に、キレート剤などを含む合金めっき浴の使用を避け、かつ品質が優れためっき層を形成する。【解決手段】 被めっき物に、まず第1層のビスマス層をめっきし、次にこのビスマス層の上に第2層の錫層を第1層のビスマスめっきの厚みの1.5倍以上の厚みでめっきし、続いて第1および第2層のめっきをリフローする。

請求項（抜粋）：

錫-ビスマスはんだ合金めっき層の形成方法において、下地めっきを施したまたは下地めっきを施さない被めっき物に、まず第1層のビスマス層をめっきし、次にこのビスマス層の上に第2層の錫層を第1層のビスマスめっきの厚みの1.5倍以上の厚みでめっきし、続いて第1および第2層のめっきをリフローすることを特徴とする錫-ビスマスはんだ合金めっき層の形成方法。

IPC (4件)：

C25D 5/10 ,  C22C 13/02 ,  C25D 3/56 ,  C25D 5/50

FI (4件)：

C25D 5/10 ,  C22C 13/02 ,  C25D 3/56 Z ,  C25D 5/50