特許
J-GLOBAL ID：200903087991639040
蛍光X線分析装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉本 修司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-328468
公開番号（公開出願番号）：特開平5-346411
出願日： 1992年11月13日
公開日（公表日）： 1993年12月27日
要約：
【要約】【目的】 微小部分の分析や、分析箇所を正確に設定することができる蛍光X線分析装置を提供する。【構成】 照射装置1はX線源2からの一次X線B1をモノクロメータ3で単色化し、この単色化した一次X線B1を、試料50の表面51に対向する方向から試料50に集光させて照射する。一次X線B1を受けた試料50からの蛍光X線B3は、X線検出器4で検出される。試料50とX線検出器4との間には、試料50からの蛍光X線B3を5°以下の取出角βで取り出して、X線検出器4に入射させる光学素子5が設けられている。
請求項（抜粋）：
一次X線を単色化して試料の表面に対向する方向から試料に照射する照射装置と、上記一次X線を受けた試料からの蛍光X線を検出するX線検出器と、上記試料からの蛍光X線を5°以下の取出角で取り出して上記X線検出器に入射させる光学素子とを備えた蛍光X線分析装置。
引用特許：
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