特許
J-GLOBAL ID:200903088006952496

ノナフルオロイソブチルメチルエーテルを生成する方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石田 敬 (外4名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-527689
公開番号(公開出願番号):特表2001-506261
出願日: 1997年11月04日
公開日(公表日): 2001年05月15日
要約:
【要約】ヘプタフルオロイソブチルメチルエーテルをフッ素化するステップを含むノナフルオロイソブチルメチルエーテルを製造する方法。
請求項(抜粋):
ヘプタフルオロイソブテニルメチルエーテルをフッ素化するステップを含むノナフルオロイソブチルメチルエーテルを製造する方法。
IPC (2件):
C07C 41/22 ,  C07C 43/12
FI (2件):
C07C 41/22 ,  C07C 43/12

前のページに戻る