特許
J-GLOBAL ID：200903088007044976
パタン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-122221
公開番号（公開出願番号）：特開平7-335519
出願日： 1994年06月03日
公開日（公表日）： 1995年12月22日
要約：
【要約】【目的】アスペクト比の高いレジストパターンのパターン倒れを防止し、微細なレジストパターンの形成を可能にする。【構成】現像処理において、レジスト2を現像液4に浸した後、現像液4を洗い流すリンス処理を行い、その後、リンス液が少なくとも表面に存在する状態で、リンス液に溶解する樹脂6をリンス液に混入し、その後、スピン乾燥を行う。その後、レジスト2の硬化処理を行い、その後、リンス液で樹脂6を除去する。
請求項（抜粋）：
レジストにパタンの潜像を形成する工程,現像液でレジストパタンを形成する工程,現像液を洗い流すリンス工程,リンス液が少なくとも表面に存在する状態で、リンス液に溶解する樹脂を含む液をリンス液に混入し、前記樹脂を基板に堆積させる工程,乾燥工程を含むことを特徴とするパタン形成方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/32
, G03F 7/40 501
