特許

J-GLOBAL ID：200903088008090246

光学絞り用NDフィルターの製造方法と絞り装置

発明者： 川上 良男 ,  吉川 宗利 ,  野末 均 ,  合田 勇
出願人/特許権者： キヤノン電子株式会社 ,  三井東圧化学株式会社
代理人 (1件)： 山下 穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-250240
公開番号（公開出願番号）：特開平10-096971
出願日： 1996年09月20日
公開日（公表日）： 1998年04月14日
要約：

【要約】【課題】 光量の均一性の向上した絞り装置、及び該絞り装置に使用される各濃度においては分光特性がフラットなグラデーションNDフィルターの製造方法を提供する。【解決手段】 光量絞り装置の絞り羽根に設けられるNDフィルターの製造方法において、有機色素を含有するプラスチックからなるフィルムに、照射量を部分的に変化させながら高エネルギーの光を照射することにより、濃度分布をもったNDフィルターを作成することを特徴とする光学絞り用NDフィルターの製造方法、及び該方法により得られたNDフィルターが絞り羽根にが設けられている絞り装置。

請求項（抜粋）：

光量絞り装置の絞り羽根に設けられるNDフィルターの製造方法において、有機色素を含有するプラスチックからなるフィルムに、照射量を部分的に変化させながら高エネルギーの光を照射することにより、濃度分布をもったNDフィルターを作成することを特徴とする光学絞り用NDフィルターの製造方法。

IPC (3件)：

G03B 9/02 ,  G02B 5/00 ,  G02B 26/02

FI (3件)：

G03B 9/02 A ,  G02B 5/00 A ,  G02B 26/02 A