特許
J-GLOBAL ID:200903088022002155
炭化珪素研磨剤の再生処理方法及び研磨剤
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-066099
公開番号(公開出願番号):特開2000-254543
出願日: 1999年03月12日
公開日(公表日): 2000年09月19日
要約:
【要約】【課題】 炭化珪素(SiC)研磨剤成分を主体とする研磨、研削廃液から使用済み研磨剤を高純度で効率的に再生する処理方法と再生された研磨剤。【解決手段】 研磨、研削廃液を真空式ドラムフィルター1、で研磨剤成分と不純物と溶液に固液分離し、炭化珪素(SiC)を主体とする固形分を水とともに分散槽2で分散させ篩3により粗い異物を除去し、その後、再度、研磨剤固形分を水に分散させたのち除鉄機5で鉄分を除去し、その後、湿式分級機6により研磨剤と不純物に分離し、その後、乾燥機8で乾燥し、その粉末を振動篩9で粒度を揃える処理方法によれば歩留が高く安価で安定した品質の研磨剤が得られる。
請求項(抜粋):
研磨剤の基材として、使用済みの炭化珪素(SiC)成分から成る研磨剤と研磨または研削によって発生した不純物が混在する混合物廃液を、真空式ドラムフィルターで炭化珪素(SiC)成分と他の不純物の混合物廃液から、溶液を固液分離し、前記、炭化珪素(SiC)成分と他の不純物の混合物を主体とする固形分を水に分散させ篩いにより粗い異物を除去し、再度、研磨剤固形分を水に分散させたのち、磁力で鉄分を除去し、その後、湿式分級機により研磨剤と他の不純物に分離し、次いで、研磨剤成分を乾燥して規定値内の粒子径に分級することを特徴とした研磨剤の再生処理方法。
IPC (4件):
B03B 9/06
, B24B 57/02
, H01L 21/304 622
, H01L 21/304
FI (4件):
B03B 9/06
, B24B 57/02
, H01L 21/304 622 E
, H01L 21/304 622 B
Fターム (17件):
3C047FF08
, 3C047GG14
, 3C047GG17
, 4D071AA03
, 4D071AA04
, 4D071AA30
, 4D071AA81
, 4D071AB07
, 4D071AB19
, 4D071AB24
, 4D071AB35
, 4D071AB42
, 4D071BA13
, 4D071BB12
, 4D071CA03
, 4D071DA01
, 4D071DA15
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