特許
J-GLOBAL ID：200903088027275265
マスクおよびそのエッチング方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-243871
公開番号（公開出願番号）：特開平6-095355
出願日： 1992年09月14日
公開日（公表日）： 1994年04月08日
要約：
【要約】【目的】 マスクとエッチング方法に関し,種々のサイズのパターンを持つマスク,レチクルの金属遮光膜のエッチングの際,各パターンのエッチング速度を均一にし,マスク,レチクルのパターン精度の向上を目的とする。【構成】 マスク基板に被着された遮光膜上にレジストパターンを形成する際に,サイズの異なるパターンの内エッチング面積の大きいパターンを線状のレジスト膜で分割したパターンを有するレジストパターンを形成して,該レジストパターンをマスクにして該遮光膜をエッチングするように構成する。
請求項（抜粋）：
マスク基板に被着された遮光膜のサイズの異なる抜きパターンの内エッチング面積の大きいパターンを線状の遮光膜で分割した抜きパターンを有することを特徴とするマスク。
IPC (2件)：
前のページに戻る
