特許
J-GLOBAL ID:200903088029412189

周期性パターンのムラ検査方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高矢 諭 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-011382
公開番号(公開出願番号):特開2001-201459
出願日: 2000年01月20日
公開日(公表日): 2001年07月27日
要約:
【要約】【課題】 撮像される検査画像をぼかしていたために検査できなかった微細な輝度ムラでも検出できるようにし、検査精度を向上させる。【解決手段】 周期性パターンを有する試料Wを撮像装置18により撮像して得られる検査画像に基づいて、該周期性パターンの不均一性を検査する周期性パターンのムラ検査装置において、前記試料Wの周期性パターンの形成面を実質的に規定する第1座標軸と、前記撮像装置18が有する撮像面を規定する第2座標軸との成す角度を変更するために、該像装置18を回転する回転機構24を設けた。
請求項(抜粋):
周期性パターンを有する対象物を撮像手段により撮像して得られる検査画像に基づいて、該周期性パターンの不均一性を検査する周期性パターンのムラ検査方法において、前記周期性パターンの形成面を実質的に規定する第1座標軸と、前記撮像手段の撮像面を実質的に規定する第2座標軸との成す角度を、入力される画像上でモアレ縞の発生が最少になるように設定し、該設定角度の下で前記検査画像を撮像することを特徴とする周期性パターンのムラ検査方法。
Fターム (8件):
2G051AA73 ,  2G051AB20 ,  2G051CA04 ,  2G051CB02 ,  2G051CD05 ,  2G051EA16 ,  2G051EA23 ,  2G051EC05

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