特許
J-GLOBAL ID：200903088039729652

液処理装置および液処理システムならびに液処理方法

発明者：
大加瀬 亘

大加瀬 亘 について

, 
松尾 剛伸

松尾 剛伸 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 大川 晃
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-133460
公開番号（公開出願番号）：特開2001-316878
出願日： 2000年05月02日
公開日（公表日）： 2001年11月16日
要約：
【要約】【課題】 めっき処理後のウエハWを洗浄することによって、その後の搬送途中に起こるめっき液の液だれまたは拡散による、めっき処理装置内およびめっき処理システム内の汚染を抑制することができるめっき処理装置およびめっき処理システムならびにめっき処理方法を提供する。【解決手段】 めっき液を収容可能に構成した液処理槽100と、ウエハWを洗浄するための洗浄ノズル200とを備え、洗浄ノズル200は、ウエハWの下方側から洗浄液を供給可能に構成する。
請求項（抜粋）：
処理液を収容して被処理体を液処理可能に構成した液処理槽と、液処理した被処理体を洗浄するための洗浄手段とを備え、前記洗浄手段が前記被処理体の下方側から洗浄液を供給可能に構成されていることを特徴とする液処理装置。
IPC (7件)：
C25D 17/00 ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/08 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 648 ,  H01L 21/304 651 ,  H01L 21/306
FI (7件)：
C25D 17/00 K ,  B08B 3/02 C ,  B08B 3/08 Z ,  H01L 21/304 643 C ,  H01L 21/304 648 L ,  H01L 21/304 651 L ,  H01L 21/306 J
Fターム (15件)：
3B201AA03 ,  3B201AB23 ,  3B201AB27 ,  3B201AB34 ,  3B201AB42 ,  3B201BB22 ,  3B201BB93 ,  3B201BB99 ,  3B201CA05 ,  3B201CC12 ,  5F043BB27 ,  5F043EE07 ,  5F043EE08 ,  5F043EE35 ,  5F043GG10
引用特許：
審査官引用 (8件)
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