特許

J-GLOBAL ID：200903088039919788

セラミックス微粒子の製造方法及びその装置

発明者： 大島 賢太郎 ,  沼田 敏晴 ,  西村 徹 ,  小久保 佐知子 ,  傳 慶一
出願人/特許権者： 花王株式会社
代理人 (1件)： 細田 芳徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-128035
公開番号（公開出願番号）：特開平6-247712
出願日： 1993年04月30日
公開日（公表日）： 1994年09月06日
要約：

【要約】【構成】一種類、又は複数種類の金属化合物を気化させて原料ガスとし、該原料ガスをキャリアーガスにより、静止した外円筒と回転可能な内円筒を有する共軸二重円筒型反応装置の内外円筒間の環状部に設けられた反応空間に供給し、内円筒を回転させながら該反応空間内で該原料ガスを反応せしめることを特徴とするセラミックス微粒子の製造方法及びその装置。【効果】本発明によれば、CVD反応場の流れとして、テイラー渦流を採用したことにより、その渦流内での温度分布、反応ガス濃度分布及び渦流内に閉じこめられた生成微粒子の滞留時間が均一となり、高収率で均一な微粒子を得ることが可能となる。また、核微粒子の反応空間への供給や原料ガスを二箇所以上の供給口より反応空間に供給することにより、各層の厚さの均一な複層構造微粒子を高収率で得ることができる。

請求項（抜粋）：

一種類、又は複数種類の金属化合物を気化させて原料ガスとし、該原料ガスをキャリアーガスにより、静止した外円筒と回転可能な内円筒を有する共軸二重円筒型反応装置の内外円筒間の環状部に設けられた反応空間に供給し、内円筒を回転させながら該反応空間内で該原料ガスを反応せしめることを特徴とするセラミックス微粒子の製造方法。

IPC (3件)：

C01G 1/00 ,  B01J 19/00 ,  B01J 19/18