特許

J-GLOBAL ID：200903088044764105

薬液処理装置及び薬液処理方法

発明者： 假屋 隆一
出願人/特許権者： ソニー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-258455
公開番号（公開出願番号）：特開2001-085382
出願日： 1999年09月13日
公開日（公表日）： 2001年03月30日
要約：

【要約】【課題】 処理温度よりも沸点が低い成分を含む薬液処理において、処理中の薬液濃度を低下させずに、薬液処理を効率良く行うことができる薬液処理装置及び薬液処理方法を提供すること。【解決手段】 アンモニア水を含む薬液を収容した内槽1にウエハを浸漬することにより、ウエハに対して薬液処理を行う薬液処理方法において、アンモニア水を濃縮機8で濃縮した後に内槽1に供給する。

請求項（抜粋）：

処理温度よりも沸点が低い液成分を含む薬液を収容した処理槽に被処理体を浸漬することにより、前記被処理体に対して薬液処理を行う薬液処理装置であって、前記処理温度よりも沸点が低い液成分を前記処理槽に供給する第1供給手段と、前記処理温度よりも沸点が低い液成分の高濃度液を前記処理槽に供給する第2供給手段と、を具備することを特徴とする薬液処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/306 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 642 ,  H01L 21/304 648

FI (5件)：

H01L 21/306 J ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/304 642 A ,  H01L 21/304 648 K ,  H01L 21/30 569 E

Fターム (15件)：

2H096AA25 ,  2H096CA01 ,  2H096JA02 ,  5F043BB30 ,  5F043DD30 ,  5F043EE10 ,  5F043EE23 ,  5F043EE28 ,  5F043EE29 ,  5F043EE31 ,  5F043EE40 ,  5F043GG10 ,  5F046MA02 ,  5F046MA03 ,  5F046MA10