特許
J-GLOBAL ID:200903088046876296

薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 頓宮 孝一 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-031771
公開番号(公開出願番号):特開平6-028626
出願日: 1993年02月22日
公開日(公表日): 1994年02月04日
要約:
【要約】【目的】 磁極端が正確に位置合せされ、磁極端の幅および厚みが厳密に制御された薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法を提供すること。【構成】 薄膜磁気ヘッドは、後部ギャップ領域(26)からエア・ベアリング表面(ABS)等の検出縁(24)に延びる第1の磁気ヨーク層(12)と、後部ギャップ領域で第1の磁気ヨーク層に接触し、第1の磁気ヨーク層と整列するが第1の磁気ヨーク層から離れた位置でABSに延びる、第2の磁気ヨーク層(22)とを備える。単一のフォトリソグラフィによって形成した幾何形状を有し、第1の磁極端層(16)とギャップ形成層(18)と第2の磁極端層(20)とを有する磁極端構造(15)が、ABSで第1の磁気ヨーク層と第2の磁気ヨーク層の間に位置し、ABSで第1の磁極端層が第1の磁気ヨーク層に接し、第2の磁極端層が第2の磁気ヨーク層に接する。
請求項(抜粋):
後部ギャップ領域から検出縁まで延びる第1の磁気ヨーク層と、上記後部ギャップ領域において上記第1の磁気ヨーク層に接し、上記第1の磁気ヨーク層と整列するが上記第1磁気ヨーク層から離れた位置で上記検出縁まで延びる第2の磁気ヨーク層と、それぞれの幅が実質的に等しい第1の磁極端層とギャップ形成層と第2の磁極端層から成る磁極端構造とを備え、上記磁極端構造は、上記第1の磁気ヨーク層と第2の磁気ヨーク層の間に位置していて、上記検出縁からゼロ・スロート位置まで延びており、上記第1磁極端層は上記検出縁から上記ゼロ・スロート位置まで上記第1磁気ヨーク層に接しており、上記第2磁極端層は上記検出縁から上記ゼロ・スロート位置まで上記第2磁気ヨーク層に接していることを特徴とする、磁気回路を有する薄膜磁気ヘッド。
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特開平2-308407
  • 特開平2-294914

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