特許
J-GLOBAL ID:200903088062080787

アブレーション型画像形成材料、その製造方法、及びそれを用いる画像形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-249654
公開番号(公開出願番号):特開2000-071618
出願日: 1998年09月03日
公開日(公表日): 2000年03月07日
要約:
【要約】【課題】 高解像度の画像が得られ更に容易に剥離できるアブレーション型画像形成材料とその製造方法、及びその材料を用いる好適な画像形成方法を提供する。【解決手段】 第1支持体上に画像形成層、接着層及び第2支持体をこの順に有し、第2支持体の厚みをD1、接着層の厚みをD2とした際に、D2/D1が0.4〜1.5の範囲に有り、且つ?@画像形成層又は?A接着層に離型性物質を含有するアブレーション型画像形成材料。
請求項(抜粋):
第1支持体上に画像形成層、画像形成層に接して接着層及び第2支持体をこの順に有し、第2支持体の厚みをD1、接着層の厚みをD2とした際に、D2/D1が0.4〜1.5の範囲に有り、且つ画像形成層に離型性物質を含有することを特徴とするアブレーション型画像形成材料。
IPC (4件):
B41M 5/26 ,  B41M 5/40 ,  G03F 7/004 524 ,  G03F 7/40 521
FI (4件):
B41M 5/26 S ,  G03F 7/004 524 ,  G03F 7/40 521 ,  B41M 5/26 B
Fターム (35件):
2H025AB01 ,  2H025AC08 ,  2H025AD05 ,  2H025BB00 ,  2H025BH02 ,  2H025CB00 ,  2H025DA33 ,  2H025DA35 ,  2H025DA39 ,  2H025FA21 ,  2H025FA50 ,  2H096AA03 ,  2H096BA13 ,  2H096CA09 ,  2H096EA04 ,  2H096GA43 ,  2H096LA12 ,  2H111AA26 ,  2H111AA35 ,  2H111AA50 ,  2H111AB01 ,  2H111AB02 ,  2H111BA02 ,  2H111BA03 ,  2H111BA04 ,  2H111BA05 ,  2H111BA09 ,  2H111BA53 ,  2H111BA55 ,  2H111BA62 ,  2H111BA63 ,  2H111HA01 ,  2H111HA14 ,  2H111HA23 ,  2H111HA35

前のページに戻る