特許
J-GLOBAL ID：200903088063625574
マイクロ波による浮遊加熱乾燥法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 寛治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-257146
公開番号（公開出願番号）：特開平5-071871
出願日： 1991年09月10日
公開日（公表日）： 1993年03月23日
要約：
【要約】【目的】 マイクロ波エネルギ-を利用して、ゴム粉末、プラスチックペレット、セラミック粉末などの粉粒状や顆粒状の被加熱物を確実に加熱乾燥させる加熱乾燥法の開発を目的とする。【構成】 底面部2が金属製のマイクロ波加熱室1で、被加熱物4を底面部2からマイクロ波の1/4波長程度の距離まで浮遊させ、この浮遊状態で被加熱物4を混合撹拌しながらマイクロ波を照射して加熱乾燥させる加熱乾燥法となっている。
請求項（抜粋）：
底面部が金属製のマイクロ波加熱室で、粉粒状や顆粒状の被加熱物にマイクロ波を照射して加熱乾燥させる方法において、底面部を多孔構造とした上記マイクロ波加熱室に、その底面部の外側より風圧力を加え、被加熱物をマイクロ波の少なくとも1/4波長の距離まで底面部から浮遊させ、この浮遊状態で被加熱物を回転撹拌機構によって混合撹拌しながらマイクロ波を照射して加熱乾燥させることを特徴とするマイクロ波による浮遊加熱乾燥法。
IPC (4件)：
F26B 3/08
, F26B 3/347
, F26B 23/08
, H05B 6/80
