特許
J-GLOBAL ID:200903088063713201

塗布装置および有機銀を含む感光層の形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 宇高 克己
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-309688
公開番号(公開出願番号):特開2000-135466
出願日: 1998年10月30日
公開日(公表日): 2000年05月16日
要約:
【要約】【課題】 コータ(剤塗布部)の横断面積が従来のものに比べて小さくとも、均一な厚みの塗膜を得ることができる塗布装置を提供することである。【解決手段】 内部には、剤を保持する剤保持室およびこの剤保持室から続く剤誘導路が形成され、かつ、剤が塗布される支持体と向き合う端部には、剤の塗布幅方向に沿って、前記剤誘導路から続く剤吐出口が形成された剤塗布部と、この剤塗布部の剤保持室内に剤を供給する剤供給手段とを具備してなる塗布装置であって、前記剤保持室の中心と前記剤吐出口との距離Dは、前記剤塗布部における、剤の塗布時、前記支持体の表面に対してほぼ垂直となる方向に沿った寸法Lの1/5〜4/5であり、前記剤誘導路の長さTは、前記剤塗布部における、剤の塗布時、前記支持体の表面に対してほぼ垂直となる方向に沿った寸法Lの1/8〜5/8である塗布装置。
請求項(抜粋):
内部には、剤を保持する剤保持室およびこの剤保持室から続く剤誘導路が形成され、かつ、剤が塗布される支持体と向き合う端部には、剤の塗布幅方向に沿って、前記剤誘導路から続く剤吐出口が形成された剤塗布部と、この剤塗布部の剤保持室内に剤を供給する剤供給手段とを具備してなる塗布装置であって、前記剤保持室の中心と前記剤吐出口との距離Dは、前記剤塗布部における、剤の塗布時、前記支持体の表面に対してほぼ垂直となる方向に沿った寸法Lの1/5〜4/5であり、前記剤誘導路の長さTは、前記剤塗布部における、剤の塗布時、前記支持体の表面に対してほぼ垂直となる方向に沿った寸法Lの1/8〜5/8であることを特徴とする塗布装置。
IPC (5件):
B05C 5/02 ,  B05C 1/00 ,  G03C 1/498 ,  G03C 1/74 ,  G11B 5/842
FI (5件):
B05C 5/02 ,  B05C 1/00 ,  G03C 1/498 ,  G03C 1/74 ,  G11B 5/842 Z
Fターム (21件):
2H023BA00 ,  2H023EA01 ,  2H123AB00 ,  2H123AB23 ,  2H123BC00 ,  2H123BC01 ,  4F040AA22 ,  4F040AC01 ,  4F040BA35 ,  4F040CA15 ,  4F040CC02 ,  4F040CC14 ,  4F040DA02 ,  4F040DA12 ,  4F041AA12 ,  4F041AB01 ,  4F041BA05 ,  4F041BA12 ,  4F041CA02 ,  4F041CA16 ,  5D112CC08

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