特許
J-GLOBAL ID：200903088066768040
はんだ付け方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
木戸 一彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-007829
公開番号（公開出願番号）：特開平7-214371
出願日： 1994年01月27日
公開日（公表日）： 1995年08月15日
要約：
【要約】【目的】 はんだ付けする際に、はんだ付け部のみに所望の不活性ガス雰囲気を形成し、少ない不活性ガス量ではんだ付け部を極めて低い酸素濃度雰囲気に保つことができるはんだ付け方法及び装置を提供する。【構成】 ノズル先端部のガス噴出口2aをはんだ付け部4に対して15mm以内、好ましくは10mm以内に配置したノズル2から、前記はんだ付け部4に向けて不活性ガス、例えば窒素ガスを毎秒5m以上、好ましくは毎秒10〜30mの流速で噴出させる。
請求項（抜粋）：
ノズル先端部のガス噴出口をはんだ付け部に対して15mm以内に配置したノズルから、前記はんだ付け部に向けて不活性ガスを毎秒5m以上の流速で噴出することを特徴とするはんだ付け方法。
IPC (3件)：
B23K 31/02 310
, B23K 3/02
, H05K 3/34 507
