特許

J-GLOBAL ID：200903088077038809

無電解ニッケルめっき液循環システム

発明者： 堀川 健 ,  三田 宗雄 ,  中尾 英弘 ,  田代 雄彦
出願人/特許権者： 日本化学工業株式会社 ,  メルテックス株式会社
代理人 (1件)： 赤塚 賢次 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-359094
公開番号（公開出願番号）：特開平10-195670
出願日： 1996年12月27日
公開日（公表日）： 1998年07月28日
要約：

【要約】【課題】 無電解ニッケルめっき老化液をめっき液として再利用することができる、工業的に有利なめっき液循環システムを提供すること。【解決手段】 (A)めっき金属イオンNi2+及び還元剤として次亜リン酸イオンH2 PO2 - の主たる供給薬剤としての次亜リン酸ニッケルを含有するめっき液を用いてめっき処理する無電解ニッケルめっき処理工程;(B)前記(A)工程からのめっき老化液をキレート樹脂で処理する脱Ni2+処理工程;(C)脱HPO3 2-処理工程;(D)脱塩工程;(E)めっき液成分調整後、前記(A)工程へ戻す再生循環工程;の各工程を順次経由することを特徴とする無電解ニッケルめっき液循環システム。

請求項（抜粋）：

(A)めっき金属イオンNi2+及び還元剤として次亜リン酸イオンH2 PO2 - の主たる供給薬剤としての次亜リン酸ニッケルを含有するめっき液を用いてめっき処理する無電解ニッケルめっき処理工程;(B)前記(A)工程からのめっき老化液をキレート樹脂で処理する脱Ni2+処理工程;(C)脱HPO32- 処理工程;(D)脱塩工程;(E)めっき液成分調整後、前記無電解ニッケルめっき処理工程(A)へ戻す再生循環工程; の各工程を順次経由することを特徴とする無電解ニッケルめっき液循環システム。

IPC (7件)：

C23C 18/36 ,  B01D 61/02 500 ,  B01D 61/44 500 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/44 ZAB ,  C02F 1/469 ,  C02F 1/58

FI (7件)：

C23C 18/36 ,  B01D 61/02 500 ,  B01D 61/44 500 ,  C02F 1/42 G ,  C02F 1/44 ZAB E ,  C02F 1/58 R ,  C02F 1/46 103

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 無電解ニッケルめっき方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-166907   出願人：日本化学工業株式会社
• 特開平4-171050
  
• 特開昭51-006136