特許
J-GLOBAL ID：200903088096060793
変成ポリフェニレンオキサイドの製法、この製法による変成ポリフェニレンオキサイドを用いたエポキシ樹脂組成物、この組成物を用いたプリプレグ、及びこのプリプレグを用いた積層板
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 成示 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-127566
公開番号（公開出願番号）：特開平9-291148
出願日： 1996年05月23日
公開日（公表日）： 1997年11月11日
要約：
【要約】【課題】 金属箔の引き剥し強度、半田耐熱性、メッキ染み込み性、高周波特性に優れた積層板の製造に有用な変成ポリフェニレンオキサイド(変成PPO)の製法、変成PPOを用いたエポキシ樹脂組成物、この組成物を用いたプリプレグ及びこのプリプレグを用いた積層板を提供する。【解決手段】 数平均分子量が10000〜30000の高分子量のPPOをポリフェノール性化合物とラジカル開始剤の存在下で再分配反応させて得られた数平均分子量が1000〜3000のフェノール変性PPO及びエピクロルヒドリンとを反応させる。この生成物は末端にエポキシ基を有する低分子の変成PPOで、この変成PPOを含むエポキシ樹脂組成物、プリプレグ、及び積層板。
請求項（抜粋）：
数平均分子量が10000〜30000の高分子量のポリフェニレンオキサイドをポリフェノール性化合物とラジカル開始剤の存在下で再分配反応させて得られた数平均分子量が1000〜3000のフェノール変成ポリフェニレンオキサイド、及びエピクロルヒドリンとを反応させることを特徴とする末端をエポキシ化した変成ポリフェニレンオキサイドの製法。
IPC (4件)：
C08G 65/48 NQT
, B29C 70/06
, C08G 59/24 NHQ
, C08J 5/24 CFC
C08G 65/48 NQT
, C08G 59/24 NHQ
, C08J 5/24 CFC
, B29C 67/14 G
