特許
J-GLOBAL ID：200903088105436467
発光素子の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤本 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-307390
公開番号（公開出願番号）：特開平7-142427
出願日： 1993年11月12日
公開日（公表日）： 1995年06月02日
要約：
【要約】【目的】 等方性よくエッチングできて四面のエッチング面形状の均一性に優れ、ウエハ平面に対する発光面角度の均等性に優れて形状の均一性に優れる高品質の発光素子が得られる製造方法の開発。【構成】 ダイシングで発光素子が得られるようにした状態の半導体ウエハ(1)に、そのオリエンテーションフラット(11)を基準線として、基準線との交差角が約45度となる方向及びそれと直交する方向がエッチング部となるレジストパターンを設けたのちそれをメサエッチング処理して所定間隔の溝(12,13)を形成し、ついでその溝に則してダイシングする発光素子の製造方法。【効果】 エッチングの異方性を大幅に抑制でき、相互に直交する方向に均一性に優れるメサ形状のエッチング溝を形成できて、四面の発光面ないし分断面の均等性に優れる発光素子を効率的に形成できる。
請求項（抜粋）：
ダイシングで発光素子が得られるようにした状態の半導体ウエハに、そのオリエンテーションフラットを基準線として、基準線との交差角が約45度となる方向及びそれと直交する方向がエッチング部となるレジストパターンを設けたのちそれをメサエッチング処理して所定間隔の溝を形成し、ついでその溝に則してダイシングすることを特徴とする発光素子の製造方法。
IPC (3件)：
H01L 21/301
, H01L 21/68
, H01L 33/00
