特許
J-GLOBAL ID：200903088116347970
新たな刺繍デザインパターンを作成する方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
野河 信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-317514
公開番号（公開出願番号）：特開平7-216715
出願日： 1992年11月26日
公開日（公表日）： 1995年08月15日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 ステッチ毎のローレベル数値制御コード刺繍デザインプログラムを、編集修正可能なアウトラインフォーマットに変換し、ステッチ毎の数値制御コードまたは圧縮データフォーマットに変換し直すことができる新たなデザインパターンを作成する方法の提供。【構成】 デザインパターンの直線部分を滑らかな曲線に変える工程と、デザインのステッチの一部または全てを、サテン、ビーン、タタミのようなステッチ型式から、異なるステッチ型式に変える工程と、フィルパターンまたはステッチランのステッチ長さを変える工程と、フィルステッチのフィルパターンを変える工程と、自動下敷きステッチを追加または削除する工程と、デザインのいずれかの部分のステッチ密度を変える工程と、ある部分または点を移動または削除する工程と、デザインのいずれかの部分を複写、回転、スケーリング、ミラー化する工程と、デザインのいずれかの部分の色を変える等の工程とを備える。
請求項（抜粋）：
現存するデザインパターンから新たな刺繍デザインパターンを作成する方法において、所定のステッチパターンに対応するステッチデータを提供する工程を特徴とし、前記ステップデータは、複数のステッチと、その各々が関連のステッチベクトルを前記パターンに有する複数のステッチ点と、複数の制御コードとを備えており、前記制御コードに対する前記ステッチデータを分析し、前記ステッチパターンにおける前記関連のステッチベクトルから、前記ステッチ点の各々に形成される角度を決定し、前記複数のステッチにおける前記角度の共通性に基づいてステッチランを規定する工程と、前記規定されたランの前記ステッチ点および前記角度から複数のアウトライン点を選択して、前記ステッチランに前記ステッチパターンのアウトラインを形成する選択工程と、前記アウトライン内の前記所定のステッチパターンを編集して、新たな刺繍デザインパターンを作成する工程とを特徴とする新たな刺繍デザインパターンを作成する方法。
IPC (4件)：
D05C 5/06
, D05B 19/10
, D05B 19/14
, D05B 21/00
