特許
J-GLOBAL ID：200903088122209725
プラズマ処理方法及びその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三好 祥二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-360284
公開番号（公開出願番号）：特開平5-182916
出願日： 1991年12月28日
公開日（公表日）： 1993年07月23日
要約：
【要約】【目的】プラズマ処理の信頼性、処理精度、処理品質を向上する。【構成】プラズマ処理中の物理、化学的モニタ値を監視し、該モニタ値が所定の値となる様、該モニタ値と関連の深い制御対象を制御し、プラズマ処理をクローズドループ制御とすることで、プラズマ処理の信頼性、処理精度、処理品質の向上を図る。
請求項（抜粋）：
プラズマ処理中の物理、化学的モニタ値を監視し、該モニタ値が所定の値となる様、該モニタ値と関連の深い制御対象を制御することを特徴とするプラズマ処理方法。
IPC (2件)：
H01L 21/205
, H01L 21/302
