電子ビームを用いたパターン描画方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小池晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-087373
公開番号（公開出願番号）：特開平11-288530
出願日： 1998年03月31日
公開日（公表日）： 1999年10月19日
要約：

【要約】【課題】電子ビームを用いて回転操作される基板上に塗布されたレジスト材料に所望のパターンを適切に描画し、高精度な微細パターンを有するディスク原盤を作製することが可能な電子ビームを用いたパターン描画方法を提供する。【解決手段】電子ビームの単位面積当たりの電流の大きさである電流密度Jを、光学記録媒体の記録領域の面積をA、光学記録媒体のトラックピッチをP、化学増幅型レジスト2の描画に必要とされる単位面積当たりの電荷量をS、化学増幅型レジスト2に照射される電子ビームのスポットの半径をWとしたときに、J≧A×S/{P×1[h]×π×W}を満足するように設定する。

請求項（抜粋）：

電子銃から出射される電子ビームを回転操作される基板上に塗布された化学増幅型レジストに照射して、この化学増幅型レジストに記録媒体のパターンに対応したパターンを描画するに際し、上記電子ビームの単位面積当たりの電流の大きさである電流密度Jが、上記記録媒体の記録領域の面積をA、上記記録媒体のトラックピッチをP、上記化学増幅型レジストの描画に必要とされる単位面積当たりの電荷量をS、上記化学増幅型レジストに照射される電子ビームのスポットの半径をWとしたときに、以下の式を満足するように設定されることを特徴とする電子ビームを用いたパターン描画方法。J≧A×S/(1[h]×π×P×W)

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