特許
J-GLOBAL ID：200903088170883055
投影露光用原図基板および投影露光方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-116081
公開番号（公開出願番号）：特開平7-301908
出願日： 1994年05月06日
公開日（公表日）： 1995年11月14日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 投影露光用原図基板を斜入射照明し、瞳フィルタを入れた投影光学系を介して投影露光用原図基板上のパタンを被露光基板上に露光転写する際、中間寸法の透過パタン部または中間寸法の遮光パタン部あるいはそれらの両方の光強度を低減し、中間寸法のパタンを所要の寸法に転写する。【構成】 遮光部70a,70b中の従来の透過パタンの中に、解像限界以下の微小幅の遮光パタンとして遮光パタン1a,1bを設けている。遮光パタン1a,1bの幅はそれぞれ0.2uとした。これにより、従来の透過パタンは透過パタン2a,2b,2cに分割される。このようにすると、遮光パタン1a,1bや透過パタン2a,2b,2cのパタン幅やパタンピッチに相当する空間周波数成分の回折光が生じ、その分、従来の透過パタンに含まれていた中間空間周波数の光成分が減ずる。
請求項（抜粋）：
瞳フィルタを入れた投影光学系を介して斜入射照明を行い、投影露光用原図基板上のパタンを被露光基板上に露光転写するのに用いられる投影露光用原図基板であって、投影光学系の開口内に照明2次光源の±1次回折像がそれぞれ2分の1を越えて取り込まれる(遮光部線幅)対(透過部線幅)が1対1の周期パタン、の線幅より大きい所定の線幅範囲の透過パタンの中に、解像しない線幅を持つ遮光パタンを配置したことを特徴とする投影露光用原図基板。
IPC (2件)：
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