特許

J-GLOBAL ID：200903088173271433

酸化チタン薄膜の製造法

発明者： 古賀 正太郎 ,  金森 正晃
出願人/特許権者： エヌオーケー株式会社
代理人 (1件)： 吉田 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-367741
公開番号（公開出願番号）：特開平11-199230
出願日： 1997年12月26日
公開日（公表日）： 1999年07月27日
要約：

【要約】【課題】 テトラ低級アルコキシチタンを加水分解して得られたチタン含有加水分解ゾルを基材表面に付着させ、これを加熱焼成して得られる酸化チタン薄膜であって、これを光触媒として水中有機物質の分解、除去などに用いた場合、分解効率を高め得るものの製造法を提供する。【解決手段】 テトラ低級アルコキシチタンのエチレングリコールモノメチルエーテル溶液を加水分解して得られたチタン含有加水分解ゾルを耐熱性基材表面に付着させ、これを加熱焼成することによって酸化チタン薄膜を製造する。

請求項（抜粋）：

テトラ低級アルコキシチタンのエチレングリコールモノメチルエーテル溶液を加水分解して得られたチタン含有加水分解ゾルを耐熱性基材表面に付着させ、これを加熱焼成することを特徴とする酸化チタン薄膜の製造法。

IPC (3件)：

C01G 23/053 ,  B01J 21/06 ,  B01J 35/02 ZAB

FI (3件)：

C01G 23/053 ,  B01J 21/06 M ,  B01J 35/02 ZAB J