特許

J-GLOBAL ID：200903088176746947

X線マスクブランクの製造方法及びX線マスクの製造方法

発明者： 安中 憲道 ,  雨宮 勲
出願人/特許権者： ホーヤ株式会社
代理人 (1件)： 阿仁屋 節雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-103911
公開番号（公開出願番号）：特開平6-314649
出願日： 1993年04月30日
公開日（公表日）： 1994年11月08日
要約：

【要約】【目的】 常に安定して平坦性に優れたX線透過膜を形成することができるX線マスクブランクの製造方法及びX線マスクの製造方法を提供する。【構成】 X線透過膜12bの表面に酸化珪素系被膜形成用塗布液を回転塗布法により塗布した塗布膜を焼成して処理膜14を形成し、この処理膜14及びX線透過膜12bの表層部を順次、均一に、エッチングすることにより平坦化されたX線透過膜12dを得る際に、上記平坦化処理工程中の塗布膜焼成工程における焼成温度を、焼成によって得られた処理膜のエッチング速度とX線透過膜のエッチング速度とが同一又はその差が小さくなるような温度に選定した。

請求項（抜粋）：

支持体に支持されるX線透過膜を形成するX線透過膜形成工程と、前記X線透過膜表面に酸化珪素系被膜形成用塗布液を回転塗布法により塗布した塗布膜を焼成して処理膜を形成し、この処理膜及び前記X線透過膜の表層部を順次、均一に、エッチングすることにより前記X線透過膜表面を平坦化する平坦化処理工程とを有するX線マスクブランクの製造方法において、前記平坦化処理工程中の塗布膜焼成工程における焼成温度を、前記処理膜のエッチング速度と前記X線透過膜のエッチング速度とが同一又はその差が小さくなるような温度に選定することを特徴とするX線マスクブランクの製造方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平3-204919
  
• 特開平2-177530
  
• 特開平2-188909
  
• 特開平2-001921