特許
J-GLOBAL ID：200903088179938359
表面をパターンに従って化学的に変性する方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 暁秀 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-222440
公開番号（公開出願番号）：特開平6-202343
出願日： 1993年09月07日
公開日（公表日）： 1994年07月22日
要約：
【要約】【目的】 酸化物基板表面をパターンに従って化学的に変性する方法および表示装置のガラスフェースプレート上に金属のブラックマトリックスを製造する方法を提供する。【構成】 酸化物基板表面の上に1個または数個の感光性シラン単分子層を設け、この感光性シラン層をパターンに従って露光させ、次いで少なくとも1個のフッ素原子を有するアルコールで前記露光部分をエステル化してこの露光部分を強疎水性にする。しかる後に、未露光区域を露光させてこの区域を親水性にする。次いで、親水性区域を無電解法で金属化して、金属パターンを形成する。【効果】 横方向解像度が1μmより小さいパターンを製造し、かつ酸化物基板表面をパターンに従って簡単にめっきすることができる。
請求項（抜粋）：
酸化物基板表面とキノン-ジアジド基を有する感光性アルコキシシランとを接触させて前記基板表面の上にシラン層を形成し、次いでこのシラン層を有する基板表面をパターンに従って露光させて、露光区域において前記キノン-ジアジド基をカルボン酸基に転化させることにより、前記基板表面をパターンに従って化学的に変性するに当り、パターンに従って露光させた後に、前記シラン層と少なくとも1個のフッ素原子を有するアルコールとを接触させて、露光区域において前記カルボン酸基を疎水性エステル基に転化させ、次いで未露光区域のキノン-ジアジド基を露光させてカルボン酸基を形成することを特徴とする表面をパターンに従って化学的に変性する方法。
IPC (2件)：
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