特許

J-GLOBAL ID：200903088185448339

露光装置、露光条件決定方法及び露光方法、並びにデバイス製造方法

発明者： 今井 裕二
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-026384
公開番号（公開出願番号）：特開平11-214295
出願日： 1998年01月23日
公開日（公表日）： 1999年08月06日
要約：

【要約】【課題】 マスクの歪みに起因する露光不良の発生を効果的に防止する。【解決手段】 マスクステージRSの複数の吸着部34によりマスクRの周辺部が吸着保持され、この状態で主制御装置44により、前記各吸着部34が独立して投影光学系PLの光軸AX方向に駆動される。この場合、主制御装置44では各吸着部を適宜駆動することにより、マスクRに歪みが殆ど生じない状態で複数の吸着部34によりマスクが保持されるようになる。従って、この状態で、マスクRに形成されたパターンを投影光学系PLを介して感応基板W上に転写することにより、マスクの歪みに起因する位置ずれやデフォーカスによる像ぼけのないパターンの転写像を感応基板上に形成することができる。

請求項（抜粋）：

マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して感応基板上に転写する露光装置であって、前記マスクに対する接触面が形成され、該接触面に前記マスクの周辺部を吸着及び吸着解除することにより、前記マスクを着脱自在に保持する複数の吸着部を有するマスクステージと;前記複数の吸着部の内の特定の1つを除く残りの吸着部、あるいは全ての吸着部を、独立して前記投影光学系の光軸方向に駆動する駆動装置とを備える露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 515 D ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 A