熱処理炉の温度制御装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：三好祥二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-322172
公開番号（公開出願番号）：特開平9-145491
出願日： 1995年11月16日
公開日（公表日）： 1997年06月06日
要約：

【要約】【課題】熱処理炉の温度制御装置に於いて、制御系を複雑にすることなく、温度検出位置の間隔を小さくして温度変化の著しい部分の温度検出精度を向上し、温度制御の精度の向上を図る。【解決手段】炉内に温度検出器8,9,10,11を所要数挿入して温度検出を行い、該温度検出結果を基に炉内の温度制御を行う熱処理炉の温度制御装置に於いて、前記温度検出器11a,11b,11c,11dを順次切替え温度検出する様にし、温度のサンプリング位置を順次移動させ、制御系に於いて処理信号を増やすことなく、より多くの点での温度測定を可能とし、測定温度を基に制御される炉内の温度の均一性、又温度制御の信頼性、精度を向上する。

請求項（抜粋）：

炉内に温度検出器を所要数挿入して温度検出を行い、該温度検出結果を基に炉内の温度制御を行う熱処理炉の温度制御装置に於いて、前記温度検出器を順次切替え温度検出する様にし、温度のサンプリング位置を順次移動させることを特徴とする熱処理炉の温度制御装置。

IPC (4件)：

G01K 13/12 , G05D 23/22 , H01L 21/205 , H01L 21/22 511

FI (4件)：

G01K 13/12 , G05D 23/22 A , H01L 21/205 , H01L 21/22 511 A

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開平4-165640
特開平4-165640
特開平4-165640

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