特許
J-GLOBAL ID：200903088200811666
フオトレジスト組成物
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-170199
公開番号（公開出願番号）：特開平5-019462
出願日： 1991年07月10日
公開日（公表日）： 1993年01月29日
要約：
【要約】【構成】 ?@ベース樹脂、?A感放射線化合物として重量平均分子量300〜4000のノボラック樹脂類の水酸基の少なくとも一部がエステル化されたキノンジアジドスルホン酸エステル化物及び?B溶媒として3-オキシプロピオン酸低級アルキルエステル及び/又は3-アルコキシプロピオン酸低級アルキルエステルを含有するフォトレジスト組成物。【効果】 本発明のフォトレジスト組成物は、保存安定性、塗布均一性が良好で高解像性のフォトレジスト組成物である。
請求項（抜粋）：
ベース樹脂、感放射線化合物及び溶媒を含有するフォトレジスト組成物において、感放射線化合物として重量平均分子量300〜4000のノボラック樹脂類の水酸基の少なくとも一部がエステル化されたキノンジアジドスルホン酸エステル化物を用い、しかも溶媒として、3-オキシプロピオン酸低級アルキルエステル及び/又は3-アルコキシプロピオン酸低級アルキルエステルを用いることを特徴とするフォトレジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/022
, G03F 7/023 501
, H01L 21/027
