特許

J-GLOBAL ID：200903088201634911

基板洗浄装置および電子デバイスの製造方法

発明者： 田中 博司
出願人/特許権者： 株式会社ルネサステクノロジ
代理人 (6件)： 深見 久郎 ,  森田 俊雄 ,  仲村 義平 ,  堀井 豊 ,  野田 久登 ,  酒井 將行
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-100703
公開番号（公開出願番号）：特開2004-311592
出願日： 2003年04月03日
公開日（公表日）： 2004年11月04日
要約：

【課題】基板上に成膜する際のガスの反応が基板上で均一でないために、積層された膜の膜厚が均一にならない場合がある。このような場合、基板洗浄後の膜厚を面内均一にするための基板洗浄装置を得る。【解決手段】別々の温度に設定可能な複数の加熱冷却部材と対向するように隙間をあけて基板を保持し、隙間に洗浄液を充填する。基板の保持には熱伝導率が低い樹脂製のチャックピンを用い、基板はチャックピン以外の部材と接しないように配置する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

各々は加熱あるいは冷却する複数の熱源と、 前記複数の熱源の温度を制御し、前記複数の熱源を別々の温度に設定可能とする温度制御手段と、 前記熱源と対向するように隙間を開けて基板を保持する基板保持手段と、 前記隙間に液体を充填するための液体充填手段とを備えたことを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (3件)：

H01L21/304 ,  H01L21/306 ,  H01L21/68

FI (3件)：

H01L21/304 642D ,  H01L21/68 N ,  H01L21/306 J

Fターム (14件)：

5F031CA02 ,  5F031HA09 ,  5F031HA10 ,  5F031HA24 ,  5F031HA37 ,  5F031HA38 ,  5F031HA48 ,  5F031HA59 ,  5F031MA23 ,  5F031MA24 ,  5F043EE08 ,  5F043EE10 ,  5F043EE12 ,  5F043EE35