真空処理装置および真空処理方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：金田暢之 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-218176
公開番号（公開出願番号）：特開2003-031507
出願日： 2001年07月18日
公開日（公表日）： 2003年01月31日
要約：

【要約】【課題】混合すると互いに反応を起こすガスを排気する際の、排気配管内でのそれらガスの反応を防ぐ。【解決手段】可燃性ガスおよび支燃性ガスが充填された原料ガス供給装置から減圧可能な真空処理炉にそれら充填ガスを順次供給して真空処理する方法であって、上記可燃性ガスの供給(S306)の前に、上記原料ガス供給装置内に残留する可燃性ガスを所定時間にわたって排気するステップ(S302〜S305)と、上記支燃性ガスの供給(S311)の前に、上記原料ガス供給装置内に残留する支燃性ガスを所定時間にわたって排気するステップ(S307〜S310)とを含む。

請求項（抜粋）：

混合すると互いに反応を起こす少なくとも2種類の原料ガスを減圧可能な真空処理炉に供給する原料ガス供給手段と、前記原料ガス供給手段内に残留した前記原料ガスを排気する排気手段と、前記原料ガスが別々に排気されるように、前記排気手段による前記原料ガスの排気を制御する制御手段とを有することを特徴とする真空処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/205 , C23C 16/44

FI (2件)：

H01L 21/205 , C23C 16/44 J

Fターム (14件)：

4K030AA01 , 4K030AA06 , 4K030DA06 , 4K030EA03 , 4K030EA12 , 4K030JA09 , 5F045AA08 , 5F045AB04 , 5F045AC01 , 5F045AC09 , 5F045AC11 , 5F045BB20 , 5F045EE01 , 5F045EG05

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