特許

J-GLOBAL ID：200903088210526480

大粒子径2,2-ビス(3,5-ジブロモ-4-ジブロモプロポキシフェニル)プロパン及びその製造方法

発明者： 香川 巧 ,  属 秀雄
出願人/特許権者： 東ソー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-275567
公開番号（公開出願番号）：特開平8-113547
出願日： 1994年10月17日
公開日（公表日）： 1996年05月07日
要約：

【要約】【目的】 粉体物性が良好な大粒子径2,2-ビス(3,5-ジブロモ-4-ジブロモプロポキシフェニル)プロパン及びその工業的製造方法を提供する。【構成】 平均粒子径が1mmよりも大きい大粒子径2,2-ビス(3,5-ジブロモ-4-ジブロモプロポキシフェニル)プロパン、及び2,2-ビス(3,5-ジブロモ-4-ジブロモプロポキシフェニル)プロパンの良溶媒溶液を、種結晶存在下、加熱したメタノール中に添加すると同時に良溶媒を留去し、晶析させることを特徴とする大粒子径2,2-ビス(3,5-ジブロモ-4-ジブロモプロポキシフェニル)プロパンの製造方法。

請求項（抜粋）：

平均粒子径が1mmよりも大きいことを特徴とする大粒子径2,2-ビス(3,5-ジブロモ-4-ジブロモプロポキシフェニル)プロパン。

IPC (2件)：

C07C 43/225 ,  C07C 41/40

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭55-111429
  
• 特開平4-234337